Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:405

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20846
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
759 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 289
758 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 317
757 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 329
756 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 331
755 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 337
754 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 340
753 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 340
752 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 340
751 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 346
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 351
749 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 356
748 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 358
747 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능] [2] 358
746 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 370
745 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 372
744 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 375
743 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 385
742 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 403
741 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 403
» 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 405
쓰기
태그

Boards

XE Login