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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
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안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching]
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공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해]
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ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
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RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델]
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CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
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반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열]
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RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability]
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Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
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744 |
산소 플라즈마에 대한 질문입니다...
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애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing]
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플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마]
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741 |
H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field]
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CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]
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Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
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738 |
염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [방전과 에폭시]
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glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [상압 플라즈마 방전 메커니즘과 특성]
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PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP]
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ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응]
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Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath]
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