번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 100573
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24230
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60860
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72860
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104561
753 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 594
752 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching] [1] 595
751 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 595
750 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 598
749 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 605
748 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 605
747 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 611
746 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 611
745 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 611
744 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 613
743 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 621
742 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마] [1] 633
741 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 638
740 CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 650
739 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 653
738 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [방전과 에폭시] [1] file 656
737 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [상압 플라즈마 방전 메커니즘과 특성] [1] 662
736 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP] [1] 664
735 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 665
734 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 665
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