안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [181] 74898
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18754
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56234
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66724
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88142
639 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 542
638 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 543
637 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 555
636 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 557
635 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 558
634 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 559
633 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 564
632 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 564
631 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 567
630 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 567
629 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 568
628 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 570
627 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 573
626 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 578
625 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 579
624 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 581
623 RF 파워서플라이 매칭 문제 581
622 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 586
621 라디컬의 재결합 방지 [1] 588
620 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 600

Boards


XE Login