안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.

 

ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면

 

RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요

 

Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20162
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57162
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68683
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92241
688 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 543
687 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 543
686 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 544
685 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 546
684 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 550
683 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 552
682 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 558
681 핵융합 질문 [1] 567
680 활성이온 측정 방법 [1] 572
679 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 573
678 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 576
677 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 579
676 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 585
675 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 585
674 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
673 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 589
672 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 591
671 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 592
670 RF Sputtering Target Issue [2] file 593
669 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 595

Boards


XE Login