안녕하세요. 반도체 회사에 재직중인 장비엔지니어 입니다.

 

에칭을 진행하는 특정 공정에서 특정 Step을 진행하는 중간에

 

60Mhz만 Ref가 튀면서 Bias Power도 튀는 현상이 있습니다..

 

27Mhz, 2Mhz도 사용하지만 해당 Power의 Ref는 정상이구요..

 

매쳐나 Generator를 바꿔봐도 현상이 똑같은거보면 chamber 내부에서 분위기가 달라지면서 발생하는 현상일 것 같은데

 

어떤 이유들이 이런 현상을 일으킬 수 있을까요..?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103255
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24704
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61509
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73515
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105930
733 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 710
732 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실] [1] 715
731 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [광운대 최은하 교수님] [1] 723
730 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 723
729 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 725
728 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화] [3] 728
727 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 729
726 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 734
725 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 742
724 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 749
723 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS] [1] 750
722 Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리] [1] 750
721 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 752
720 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 756
719 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 763
718 안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift] [1] file 768
717 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 775
716 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용] [1] 782
715 수중방전에 대해 질문있습니다. [플라즈마 생성 및 방전] [1] 784
714 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 786

Boards


XE Login