Others O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응]

2017.02.12 00:26

반도체지현 조회 수:7246

안녕하세요 세종대학교에 재학중인 학부생 김지현 입니다.

저는 방학동안에 연구실에서 실험을 배우는 중입니다. 저희 연구실은 그래핀에 대해 연구하는 곳입니다.

제가 photo lithography를 배우는 과정중에  산소 플라즈마 처리를 사용하는데, 플라즈마가 무엇인지 궁금하여 공부중입니다.

plasma etching에 대해 찾아보던중에 사용하는 기체들이 용도에 따라서 다른데 그 차이점들을 알고 싶습니다,

그래핀을 O2 플라즈마에서 처리하는데 왜 O2를 사용하는지 궁금합니다. 즉 O2플라즈마의 특성에 대해 궁금합니다. 

그리고 질소플라즈마와 아르곤 플라즈마의 특성과 차이점이 무엇인지 궁금합니다. 

질문이 다소 복잡해서 다시 정리하자면 플라즈마 에칭 공정을 할때 용도에 따라 다른 기체들을 사용하는데, 어떠한 특성때문에 

다른지 궁금합니다. 

 

감사합니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102832
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24683
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61408
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73473
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105820
181 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1625
180 전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과] [1] file 1634
179 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1646
178 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1658
177 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1670
176 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1672
175 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1710
174 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1729
173 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1735
172 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1763
171 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1815
170 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1828
169 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1845
168 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1872
167 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1935
166 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma] [1] 1960
165 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 2066
164 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 2070
163 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2101
162 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2273
쓰기
태그

Boards

XE Login