저희는 PT 처리를 위해 CCP 플라즈마를 사용하고 있습니다.

약 -7승 정도의 진공도의 챔버에서 ITO세정용으로 플라즈마 처리를 하고 있습니다.

제가 궁금한 것은 먼저


1. 표시되는 압력의 의미가 궁금합니다. mTorr이 플라즈마 내부로 유입된 기체(질소)가 나타내는 압력을 의미하는 것 맞나요?

그렇다면 챔버 내 압력 = 플라즈마의 압력 이라고 봐도 무방할까요


2. self bias값이 파워(W)가 증가할수록, 압력(mTorr)이 낮아질수록 증가하는데 그 이유를 알고 싶습니다.


3. 나타나는 값중 position이라는 값이 있습니다. 평소에는 position 값이 100을 유지하다가 플라즈마 처리를 위해

기체를 유입하면 그 값이 떨어지고 일정한 값을 유지를 하는데 이 position이 무엇을 뜻하는지 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] 74887
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18738
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56224
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66691
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88031
151 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1710
150 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1766
» 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1897
148 CVD 공정에서의 self bias [1] 2030
147 플라즈마볼 제작시 [1] file 2069
146 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2078
145 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2123
144 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2196
143 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 2210
142 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2230
141 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 2240
140 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2243
139 질문있습니다. [1] 2329
138 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2346
137 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2612
136 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 2616
135 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2730
134 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 2844
133 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2858
132 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2983

Boards


XE Login