CCP CCP의 electrod 재질 혼동 [PECVD와 화학물 코팅]

2004.06.25 16:47

관리자 조회 수:16651 추천:270

질문 ::

저는 반도체 제조 관련 업종에 종사하며, 플라즈마 Etch, CVD 등의 장비 분석을 맡고 있습니다. 대학에서 물리학을 전공하였으나, 그다지 관심이 없던 플라즈마 분야를 본의 아니게 맡게 되어 골머리를 앓고는 하다가, 이곳에서 많은 도움을 받았습니다. 이런 귀한 사이트를 운영하시는 김곤호 교수님께 우선 감사와 존경을 표하고 싶습니다. 더불어 질문을 하나 드리려고 합니다.

CCP 에서 전극 (electrode) 의 재질이 무조건 금속일 것으로 생각해왔는데요, 인터넷 검색이나 문헌 등을 보면, 그렇지 않다는 얘기가 나옵니다. RF discharge 의 경우, 전극이 반드시 금속일 필요는 없으며 dielectric material 일 수도 있다고 합니다 (Si, quartz, ceramic 등). 물론, 기본적으로 금속 재질 plate 를 이러한 유전 물질로 coating 했을 것으로 짐작이 되는데요, 그렇다면,

CCP 전극이 순수 metal 일 경우와 유전 물질일 경우의 차이점 (RF power 전달 효율, sheath 의 상태, electrode 의 damage) 을 알고 싶습니다.

답변 ::

CCP 전극의 재질은 도체나 부도체를 써도 플라즈마를 발생하는데는
문제가 없습니다. 특히 여기서 전력이 인가되는 power electrode 쪽의
재질이 문제가 될턴데, 이곳에서의 쉬스 전위는 self bias 효과에 의해서만들어진 전극표면의 전위에 대해서 형성되고 이 크기로 이온이 삽입됩니다. Self bias는 float 된 표면에서 발생함으로 전극의 표면이 도체건,
부도체건 큰 문제가 없을 것 입니다. 따라서 먼저 self bias를 이해하시면 좋을 것 같으며 (이미 설명하였습니다.) 이때  쉬스 전위 에너지를 갖는 이온이
전극과 충돌하여 전극 표면으로 부터 이차전자가 방출되는데 이들
이차전자들은 플라즈마 발생에 매우 큰 영향을 주게 됩니다. 따라서
이차전자 방출계수가 큰 전극 물질이 플라즈마 발생 측면에서는 유리합니다.
따라서 실제 많은 반응기에서는 반응기내부의 청정문제등을 고려하여
전극에 세라믹등을 씌워서 사용하고 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102900
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61429
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105841
73 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2817
72 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성] [1] 2923
71 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2935
70 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 3038
69 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization] [1] 3053
68 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [MFC와 H2 gas retention] [3] 3300
67 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구] [1] 3584
66 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning] [1] 4055
65 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4225
64 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [플라즈마 물리/화학적 특성, 중성입자 거동 및 자기장 성질] [1] 4447
63 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4523
62 RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage] [2] 5096
61 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 5732
60 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문 드립니다! [플라즈마 발생 방식과 성질] [1] 6577
59 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [공동형 토치의 운전법 및 방전특성이해] [2] 6585
58 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient] [1] file 6977
57 저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성] [1] 7084
56 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전] [1] 7935
55 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 8123
54 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [DBD와 플라즈마 방전 메커니즘] [1] 8381

Boards


XE Login