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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
26 석영이 사용되는 이유? [1] 20059
25 플라즈마 matching 20289
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20407
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21126
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21216
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22272
20 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22586
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17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23350
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24654
15 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24787
14 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24792
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24915
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25596
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26247
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26512
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27237
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27671
7 esc란? 28114

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