ESC dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐

2010.05.18 11:04

김기구너 조회 수:26077 추천:215

ESC 관련회사에 다니는 김기권입니다.
LCD 공정에서 각 단계별 과정을 거친 후 dechucking시 Glass가 ESC(Electrostatic Chuck)로부터 방전되지 못하고, 잔류되어 있는 극성을 띤 전하(Electric charge)들에 의해 Glass 와 ESC 사이에 인력이 발생하여  Glass broken  문제가 발생했습니다. ESC 는 6개월 정도 사용중이었고 고객사에서는 ESC 에 문제로 추정하고 있습니다. Glass broken 문제에 관하여 ESC 의 문제로만 볼수있는지... 아님 Etcher 장비에도 문제가 있을수 있는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76431
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19995
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57067
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68543
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91342
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22212
20 Peak RF Voltage의 의미 22542
19 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22567
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22922
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23308
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24506
15 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24715
14 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24754
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24791
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25568
» dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26077
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26436
9 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27193
8 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27552
7 esc란? 28034
6 Arcing [1] 28593
5 matching box에 관한 질문 [1] 29629
4 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35736
3 Ground에 대하여 39221
2 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41144

Boards


XE Login