안녕하세요. 반도체 장비부품쪽 업종에서 일을 하고 있습니다.


현재 Etch 장비를 Coating 후 1Cycle을 사용한 후 Particle Issue가 일어나 중간에 세정을 진행하여 장착하면 E/R값이 상승합니다.


E/R값을 잡기 위해서 세정후에 Coating면에 Plasma를 조사하면 어떨까 하는데 효과가 있을지가 궁금하고 E/R값이 전반적으로 어떤 것에 영향이 미치는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4967
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16323
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63781
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83587
580 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 538
579 교수님 질문이 있습니다. [1] 541
578 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 541
577 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 543
576 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 544
575 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 545
574 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 557
573 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 559
572 전자 온도 구하기 [1] file 559
571 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 562
570 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 576
569 ICP 후 변색 질문 577
568 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 589
567 Collisional mean free path 문의... [1] 590
566 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 599
565 plasma 형성 관계 [1] 609
564 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 610
563 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 611
562 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 613
561 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 624

Boards


XE Login