Others 연면거리에 대해 궁금합니다.

2020.10.13 15:31

김민수 조회 수:888

안녕하세요. 교수님

저는 하단에 13.56Mhz RF Bias 와 상부의 MW를 통한 2중 Plasma 생성 구조를 가진 Etcher 장비 챔버를 연구하고있습니다.

현 질문의 배경에는 단순하게 척을 감싸는 세라믹의 두께를 증가시켰더니 아킹발생 정도가 줄어든 것인데요.

저는 이걸 연면거리와 관계있다고 생각하는데 몇일 째 확실한 답안을 도출 못해 도움을 요청드립니다.

구글링해본 결과로는 연면거리의 parameter는 가동 전압, 오염도, 격리 유형, 절연물질 저항 등등 다양한 요소가 있는 것 같습니다.

그런데 조절한 값은 세라믹 두께이니 절연물질의 저항? 이 올라간거라고 생각합니다.

근데 이거에 대한 관련 식을 찾아볼 수 도 없었고, 영향력을 수치로써 표현하기가 너무 어렵습니다. 그리고 실제 세라믹 두께 증가로 인한 연면거리 증가가 아킹발생 정도 저하에 실제로 영향을 끼쳤을 지도 확신이 서질 않습니다.

두께값등 구체적인 수치를 나열하기는 양도 많아지고 하여 적지는 않겠지만 교수님이 가지고 계신 개인적인 경험 이야기가 궁금합니다..

답변주시길 기다리고 있겠습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77858
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20762
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57682
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69187
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93512
716 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 491
715 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 491
714 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 493
713 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 495
712 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 495
711 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 498
710 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 499
709 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 506
708 plasma striation 관련 문의 [1] file 517
707 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 521
706 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 523
705 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 523
704 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 530
703 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 530
702 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 536
701 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 539
700 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 539
699 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 544
698 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 559
697 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 567

Boards


XE Login