번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111819
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27998
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65271
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 77086
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111387
716 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 899
715 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 919
714 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 925
713 활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀] [1] 927
712 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 929
711 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 937
710 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 941
709 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 946
708 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 946
707 ICP 후 변색 질문 950
706 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 956
705 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 957
704 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 957
703 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 957
702 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 959
701 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 960
700 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 962
699 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 963
698 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 970
697 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 979
쓰기
태그

Boards

XE Login