플라즈마 기본 사양 문의
2018.02.27 10:50
안녕하세요
플라즈마 기기에 급 관심을 갖게된 대학생입니다.
기본적으로 몇가지 문의 드리고 싶은데 아시는 분들은 말씀 부탁드립니다.
1. 저온 플라즈마의 측정 단위?
빛은 에너지밀도, 파장대로 어떤 기기의 출력 스펙을 한정하듯 저온 플라즈마 스펙도 전압, 주파수, 파장, 에너지밀도 등으로
쓸 수 있는건가요?
그렇다면 어떤 측정 단위를 쓰나요? V ? W ? W/m2 ? nm ?
2. 고전압
3KV 이상의 고전압을 걸어야 플라즈마 형태로 기체를 이온화? 시킬 수 있는것으로 알고 있는데
혹시 이 고전압이 불량이 나거나 이상이 생겼을때 위험하진 않나요
3. 인체 안전성?
플라즈마를 인체에 쐬어 주었을때 나타나는 부작용? 등이 있을까요?
반응성이 크고 에너지가 큰 상태인 플라즈마가 어떤 작용을 할거같은데..
4. 플라즈마 측정 방법
플라즈마가 나오는지 측정하려면 분광기?등 어떤 장비를 사용해야 하나요?
측정해주는 기관이나 (공공기관) 실험실이 있으면 추천 부탁드립니다.
1번과 같은 질문인데 측정하면 뭘 어떻게 어떤 스펙을 측정하는지도 .....궁금합니다
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76858 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20263 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68748 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92616 |
677 | 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] | 593 |
676 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 593 |
675 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 596 |
674 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 597 |
673 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 598 |
672 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 599 |
671 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 607 |
670 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 609 |
669 | RF Sputtering Target Issue [2] | 611 |
668 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 613 |
» | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 615 |
666 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 615 |
665 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 616 |
664 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 616 |
663 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 618 |
662 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 621 |
661 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 623 |
660 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 627 |
659 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 630 |
658 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 636 |