안녕하세요. 최근에 원자층식각(Atomic Layer Etching) 또는 ALD시 remote plasma란 용어가 자주 나오는데요, 일반적으로 이야기 하는 Plasma 와 어떤 차이가 있는 건가요? 생성방법? 이온 밀도? 등등 차이점에 대해 설명좀 부탁드립니다. 항상 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] 4888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16229
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63748
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83514
558 알고싶습니다 [1] 630
557 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 631
556 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 632
555 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 639
554 플라즈마 챔버 [2] 649
553 플라즈마 충격파 질문 [1] 658
552 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 661
551 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 671
550 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 673
549 문의 드립니다. [1] 674
548 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 674
547 RF 전압과 압력의 영향? [1] 675
546 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 676
545 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [2] 677
544 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 679
543 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 687
542 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 689
541 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 693
540 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 693
539 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 700

Boards


XE Login