안녕하세요.

PECVD로 탄소 박막을 합성하고, 표면을 Oxide 시키기 위해 plasma asher로 200W/30 min 동안

처리하였는데 반응이 없어 다른 방법을 모색중입니다.

그래서 스퍼터로 가능할까 싶어서 궁금증을 여기에 풀어 봅니다.

보통 O2/N2는 반응성 스퍼터링에 사용되는 것으로 알고 있습니다.

혹시나, (1) Ar 대신 O2 or N2만 주입해도 플라즈마가 형성이 가능한가요?

그리고 (2) 타겟없이도 플라즈마가 뜨는가요?

이 두 부분이 궁금합니다.

생뚱맞는 질문일수도 있지만,

답변 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103256
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24704
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61510
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73515
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105930
713 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [열플라즈마와 "플라즈마 금속학"] [1] 793
712 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 794
711 Frequency에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [전자와 이온의 열운동 특성과 반응 거리] [1] 797
710 활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀] [1] 799
709 플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리] [1] 804
708 핵융합 질문 [NFRI 국가핵융합 연구소] [1] 804
707 간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database] [1] 811
706 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 813
705 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 819
704 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 824
703 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 826
702 수중속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다. [방전 특성과 절연 파괴] [2] file 829
701 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 837
700 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 843
699 PEALD장비에 관해서 질문드리고 싶습니다. [장비 세정 및 관리 규칙] [1] 847
698 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 850
697 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 850
696 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 850
695 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 854
694 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 855

Boards


XE Login