ATM Plasma Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록)

2022.02.09 14:37

이영한 조회 수:702

-> 실명으로 작성했다고 생각했는데 닉네임으로 되어있어서 죄송합니다.ㅜㅜ 닉네임 실명으로 수정하였습니다.

 

안녕하세요 

 

현재 원기둥 모양의 얇은 텅스텐을 강염기 KOH로 전기에칭을 진행하고 있습니다.

 

Etching이 완료된 후 SEM으로 이미지를 보면 어떤물질인지 정확히 알 수 없는 수십나노 size의 Contamination들이 표면에

 

붙어있습니다. 

 

현재 플라즈마 장비로 이런 Contamination을 제거하기 위한 방법들을 찾아보고 있는 와중에 일전에도 도움주셔서 이렇게 글을

 

남겼습니다.

 

저희가 사용하는 플라즈마 장비는 진공플라즈마가 아닌 대기압플라즈마를 사용하며, 워낙 얇은 텅스텐을 사용하다보니

 

진공플라즈마에서 피뢰침처럼 Ark 방전이 발생하여 일부로 시료의 damage가 덜한 대기압플라즈마로 Remote 방식을 쓰고 있습니다.

 

현재 대기압플라즈마로 Native oxide제거(연구중), 정전기 제거(주사용)로 사용하고 있는데 추가적으로 Contamination 제거도 진행

 

하려고 합니다.

 

이러한 상황에서 좋은 접근방법이 있을지 여쭤보고 싶습니다.

 

바쁘신 와중에 글 읽어주셔서 감사합니다.

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [131] 5627
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16928
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51354
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64230
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84397
573 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 643
572 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 649
571 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 651
570 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 652
569 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 657
568 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 660
567 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 672
566 플라즈마 충격파 질문 [1] 678
565 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 683
564 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 683
563 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 689
562 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 691
561 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 698
560 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 700
» Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 702
558 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 704
557 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 709
556 문의 드립니다. [1] 716
555 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 720
554 플라즈마 챔버 [2] 722
쓰기
태그

Boards

XE Login