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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 58632
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488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 640
487 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 642
486 Plasma Generator 관련해서요. [1] 643
485 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 646
484 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 647
483 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 647
482 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 647
481 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 648
480 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 653
479 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 660
478 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 666
477 고진공 만드는방법. [1] 672
476 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 674
475 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 679
474 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 679
473 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 684
472 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 697
471 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 702
470 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 703
469 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 703
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