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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화]
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자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy]
[1] | 977 |
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안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응]
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접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
[1] | 989 |
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Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground]
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ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법]
[1] | 995 |
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플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별]
[1] | 999 |
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플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide]
[2] | 1001 |
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CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계]
[2] | 1009 |
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687 |
Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해]
[1] | 1011 |
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686 |
ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential]
[1] | 1017 |
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CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision]
[1] | 1038 |
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안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias]
[1] | 1041 |
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코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [전극 설계 및 방전기 운전 모드 개발]
[1] | 1042 |
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682 |
기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging]
[1] | 1048 |
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681 |
ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델]
[1] | 1051 |
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680 |
주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating]
[1] | 1055 |
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679 |
ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다
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678 |
skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
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Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath]
[2] | 1075 |
