Etch Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계.

2020.08.05 14:15

티거짱76 조회 수:910

안녕하세요.

저는 Etch 장비를 개발하는 설계 엔지니어 입니다.

궁금한게 있어 문의 드립니다.

열은 기본적으로 높은데서 낮은데로 이동한다고 알고 있습니다.

예를 들어  Vacuum Chamber(Etching) 내에서 Chamber의 Top면을 100도로 히팅하고 Side쪽을 80도로 히팅하고 

Wafer를 Chucking하는 ESC를 50도로 히팅한다고 하면  열의 이동이 top -> side -> esc로 이동을 합니다.

(단, 여기서 Pump는 Close라고 가정합니다.)

그러면 Etching하고 난 Byproduct의 이동도 열의 이동과 같은 방향으로 움직일까요?

혹시 맞다면 어떤 이유로 그렇게 되는지 설명을 부탁드립니다.

제가 이부분에 대해 좀 더 공부하고 싶은데 어느 부분을 공부해야 하는지 조언 부탁드릴께요.

감사합니다.




이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [221] 75436
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19172
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56481
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67572
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89377
608 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 732
607 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 734
606 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 734
605 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 737
604 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 746
603 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 751
602 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 751
601 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 754
600 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 755
599 플라즈마 충격파 질문 [1] 760
598 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 773
597 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 777
596 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 777
595 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 779
594 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 780
593 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 783
592 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 785
591 anode sheath 질문드립니다. [1] 794
590 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 802
589 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 803
쓰기
태그

Boards

XE Login