안녕하세요.

플라즈마를 이용한 반도체 공정의 균일도에 관련한 모든 게시물을 보며 많은 도움을 받았습니다.

RF Power는 플라즈마 분포 균일성 및 공정 균일도에 영향을 미치지 않는 것인지 궁금하여 질문드립니다. (CCP-RIE, PECVD)

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77294
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20491
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57409
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68940
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92987
139 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3168
138 CVD 공정에서의 self bias [1] 3224
137 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3283
136 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3454
» RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3480
134 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3506
133 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3510
132 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3559
131 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3568
130 Descum 관련 문의 사항. [1] 3800
129 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3893
128 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 4031
127 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4061
126 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4273
125 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4895
124 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5245
123 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5719
122 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5956
121 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6362
120 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6424

Boards


XE Login