안녕하세요 교수님

반도체 후공정 회사를 다니고 있는 직장인입니다.

 

공정 진행 후 leakage test 결과 leakage current가 높게 나온 문제점이 발생하였습니다.

내부 엔지니어 문의 결과 O2 descum공정이 metal residue를 없애는데 도움을 준다는 답변을 받았습니다.

따라서 추가적으로 O2 descum을 진행했지만, leakage 문제는 개선되지 않았습니다.

metal residue를 없애기 위해 다른 가스(Ar, H2N2, CF4 등)를 이용한 플라즈마가 더 효과적인지 알고싶어 질문드립니다.

 

혹은, leakage를 개선할 수 있는 방법이 있다면 조언해주시면 감사드립니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19990
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91318
636 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 691
635 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 692
634 Self bias 내용 질문입니다. [1] 698
633 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 703
632 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 706
631 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 709
630 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 710
629 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 710
628 ICP 후 변색 질문 712
627 교수님 질문이 있습니다. [1] 719
626 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 731
625 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 731
624 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 750
623 라디컬의 재결합 방지 [1] 758
622 Collisional mean free path 문의... [1] 765
621 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 765
620 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 766
619 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 770
618 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 774
617 RF 파워서플라이 매칭 문제 775

Boards


XE Login