안녕하세요 반도체산업으로 취업을 준비하는 학부생입니다.

학과 연구실에서 소자 제작 중 이방성 식각을 위해 RIE 장비를 사용하여 식각을 진행했습니다.

연구실 RIE 사용기술서를 보면 식각하고자 하는 샘플 외에도 패턴이 없는 샘플들을 추가로 주변에 같이

로딩하여 진행하게 되어있는데 정확한 이유를 잘모르겠습니다.

 

석사 선배들한테 질문한결과 샘플 모서리 부분에서 전계가 낮아지는 효과로 인해 식각률이 안쪽과 바깥쪽이 달라지는 이유

때문이라고 답을 들었지만 확신이 서지 않아 전문적인 지식을 갖추신 교수님께 정확한 확답을 듣고자 질문하게 되었습니다.

 

또한 챔버 안쪽과 바깥쪽에서의 식각률이 다르다는것은 플라즈마 밀도 부분에서 차이가 있어서 그런것인지 여쭤보도 싶고

ccp 설비에서 식각 균일도를 확보할 수 있는 해결 방안 역시 궁금합니다!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103272
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24710
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61515
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105936
694 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 857
693 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 858
692 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 863
691 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 865
690 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 871
689 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 874
688 ICP 후 변색 질문 875
687 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 876
686 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 877
685 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 878
684 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 879
683 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 886
682 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 905
» CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 917
680 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [플라즈마 이온화 및 해리 반응, 반응기 벽면 세정] [1] 927
679 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 936
678 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 940
677 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 945
676 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 948
675 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능] [2] 951

Boards


XE Login