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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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532 |
RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이
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531 |
Plasma source type
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530 |
플라즈마내에서의 아킹
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529 |
SCCM 단위에 대하여 궁금합니다.
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528 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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527 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
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526 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 31756 |
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DC Bias Vs Self bias
[5] | 28834 |
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524 |
ICP 플라즈마에 관해서
[2] | 28598 |
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523 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
| 28427 |
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522 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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521 |
플라즈마 밀도
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520 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
| 27604 |
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519 |
반도체 관련 질문입니다.
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518 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 27242 |
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517 |
DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여..
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516 |
matching box에 관한 질문
[1] | 26951 |
