공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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573 |
RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이
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572 |
Plasma source type
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571 |
SCCM 단위에 대하여 궁금합니다.
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570 |
플라즈마내에서의 아킹
| 42777 |
569 |
VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다.
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568 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 37497 |
567 |
Silent Discharge
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566 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
[1] | 33941 |
565 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
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564 |
Self Bias
| 29747 |
563 |
ICP 플라즈마에 관해서
[2] | 29383 |
562 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 29314 |
561 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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560 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
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559 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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558 |
반도체 관련 질문입니다.
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557 |
플라즈마 밀도
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