안녕하세요.
저는 미국 Carnegie Mellon University 재료과 박사과정중인 최두호라고 합니다. 연구실 들어간지가 얼마 되지 않았는 데, 장비가 말을 안 들어 고생중입니다. 바로 아래 글을 올렸는 데, 수정 및 삭제가 이상하게 안 되네요. 관리자님 삭제 부탁드립니다.

개인적으로 지금 진공 및 스퍼터 장비에 대해 독학을 해야 하는 입장인데요, 책은 Ohring의 Materials science of thin films를 보고 있는 데, 내용이 만만치 않네요. 교재는 유명한 책이라고 하는 데, 초보자인 제가 보기에는 조금 어려운 것 같습니다.

1. scattering cross-section에 대해 쉽게 설명 부탁드립니다.

2. 현재 저희 실험실에 DC와 RF가 한챔버에 설치가 되어 있는 데, DC sputter는 전혀 문제가 없는 데, RF sputter가 어느 순간부터 동작을 하지 않습니다. 낮은 파워로 동작을 시키면 장비내의 crystal monitor가 fail이라고 나오고, 높은 파워로 동작을 시키면 pump까지 fail됩니다. 여기 저기 수소문 해보니 match box의 cable문제 아니면 grounding문제같다고 하는 데, 확실치는 않습니다. 혹시 ground문제라고 하면 어떻게 똑바로 ground를 잡을 수 있을까요?

3. macth box의 역할과 기능을 간단히 설명 부탁드립니다.

4. 장비를 사용하는 것을 보니, forward 와 backward를 가지고 하는 것 같던 데, 이게 .간략히 무엇을 하는 과정인가요?
감사합니다.

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이게 무슨 개념인가요?
단위는 면적으로 나오긴 하는 데, 말그대로 잘랐을 때 단면적은 아니고.

충돌하는 두 물체의 면적과 관계되는 것 같긴 한데, 정확히 개념이 안 잡히네요.
깔끔하게 답변 부탁드립니다