Matcher matching box에 관한 질문
2010.05.05 13:54
안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48774 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 52771 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 60578 |
| 574 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 68425 |
| 573 | Plasma source type | 51440 |
| 572 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 43221 |
| 571 | 플라즈마내에서의 아킹 | 42776 |
| 570 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 38858 |
| 569 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 37490 |
| 568 | Silent Discharge | 35845 |
| 567 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 33925 |
| 566 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 33797 |
| 565 | Self Bias | 29732 |
| 564 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 29377 |
| 563 | DC Bias Vs Self bias [5] | 29310 |
| 562 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 29136 |
| 561 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 28550 |
| 560 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
| 28456 |
| 559 | 반도체 관련 질문입니다. | 28177 |
| 558 | 플라즈마 밀도 | 28150 |
- 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.