Matcher matching box에 관한 질문
2010.05.05 13:54
안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76542 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20078 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57116 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91697 |
779 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144269 |
778 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134434 |
777 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95476 |
776 | Plasma source type | 79618 |
775 | Silent Discharge | 64555 |
774 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54786 |
773 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47764 |
772 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43678 |
771 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41192 |
770 | 대기압 플라즈마 | 40676 |
769 | Ground에 대하여 | 39313 |
768 | RF frequency와 RF power 구분 | 39046 |
767 | Self Bias | 36376 |
766 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35826 |
765 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34920 |
764 | PEALD관련 질문 [1] | 32602 |
- 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.