개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [311] | 78966 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21182 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57997 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69553 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 94241 |
602 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 17029 |
601 | ICP 식각에 대하여… [Electronegative plasma] | 16986 |
600 | 플라즈마 처리 [표면처리와 Plasma Chemistry] | 16965 |
599 | sputter | 16889 |
598 | Virtual Matching [Impedance matching] | 16886 |
597 | nodule의 형성원인 | 16814 |
596 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] | 16738 |
595 | 몇가지 질문있습니다 | 16609 |
594 | CCP의 electrod 재질 혼동 [PECVD와 화학물 코팅] | 16557 |
593 | 플라즈마의 어원 [Langmuir] | 16378 |
592 | 궁금해서요 | 16353 |
591 | 궁금합니다 [입자 속도에 따른 충돌 단면적과 mean free path] [1] | 16210 |
590 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16116 |
589 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [수중방전의 heating source] [1] | 16103 |
588 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16046 |
587 | 역 수소폭탄에 대하여… [핵융합에 필요한 요소들] | 16031 |
586 | k star [기초과학지원 연구원] | 15974 |
585 | ICP TORCH의 냉각방법 [냉각수와 와류] | 15951 |
584 | Sputter | 15939 |
583 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15931 |