번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48518
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49110
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 54811
495 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 23998
494 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 23992
493 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 23891
492 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 23594
491 esc란? 23575
490 플라즈마 온도 23474
489 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 23198
488 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23110
487 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23067
486 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 22951
485 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 22724
484 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22671
483 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22642
482 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22450
481 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 22435
480 Arcing 22339
479 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22076
478 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22061
477 DC glow discharge 22033
476 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22011

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