번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [102] 3668
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15347
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50580
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63005
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82161
629 self bias (rf 전압 강하) 25831
628 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25822
627 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25371
626 충돌단면적에 관하여 [2] 25323
625 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25063
624 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24522
623 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24486
622 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24387
621 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24322
620 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24279
619 플라즈마가 불안정한대요.. 24272
618 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24078
617 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23902
616 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23677
615 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 23648
614 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23538
613 플라즈마의 정의 23482
612 플라즈마 쉬스 23385
611 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23188
610 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23053

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