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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68524
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91229
733 sheath와 debye shielding에 관하여 27660
732 DBD란 27656
731 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27545
730 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27192
729 이온과 라디칼의 농도 file 26894
728 self bias (rf 전압 강하) 26617
727 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26435
726 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26065
725 충돌단면적에 관하여 [2] 26050
724 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 25834
723 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25566
722 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24957
721 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24816
720 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24788
719 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24752
718 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24712
717 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24610
716 플라즈마가 불안정한대요.. 24492
715 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24489
714 plasma와 arc의 차이는? 24451

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