공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[269]
| 76739 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20211 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57168 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68703 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92294 |
749 |
플라즈마 온도
| 27782 |
748 |
DBD란
| 27720 |
747 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 27618 |
746 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27209 |
745 |
이온과 라디칼의 농도
| 26997 |
744 |
self bias (rf 전압 강하)
| 26713 |
743 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26469 |
742 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26187 |
741 |
충돌단면적에 관하여
[2] | 26165 |
740 |
OES 원리에 대해 궁금합니다!
[1] | 26123 |
739 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25582 |
738 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24987 |
737 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24876 |
736 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24856 |
735 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24773 |
734 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24748 |
733 |
plasma와 arc의 차이는?
| 24671 |
732 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24649 |
731 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24583 |
730 |
플라즈마가 불안정한대요..
| 24518 |