Plasma in general Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요?
2023.06.23 11:23
안녕하세요 저는 현재 PECVD 장비를 사용하는 연구원입니다.
어플라이드社의 PRODUCER-S 설비로 ACL 공정을 Set-up하고 있습니다.
Unif를 잡기위해서 압려과 RF Power를 건드려 가며 조정 중에 있는데
RF Ref가 어떤 조건에서는 높게 뜨고 어떤 조건에서는 낮게 뜨는데 어떤 조건이 영향을 미칠까요?
알려주시면 감사하겠습니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76858 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20263 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68748 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92615 |
137 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 623 |
136 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 621 |
135 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 618 |
134 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 616 |
133 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 616 |
132 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 615 |
131 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 615 |
130 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 613 |
129 | RF Sputtering Target Issue [2] | 611 |
128 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 609 |
127 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 607 |
126 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 599 |
125 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 598 |
124 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 597 |
123 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 596 |
» | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 593 |
121 | 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] | 593 |
120 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 590 |
119 | Interlock 화면.mag overtemp의 의미 | 587 |
118 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 583 |