Matcher PECVD설비 Matcher 아킹 질문
2023.12.18 13:36
안녕하세요 PECVD설비 다루는 현직 엔지니어 입니다.
Setup중 RPS를 쓰지 않아 RF Generator에서 3.5kW를 공급하는데 Shunt box 볼테이지와 주파수 및 클린 레시피도 바꾸어 봤는데 matcher 내부에 아킹이 발생하네요.
근데 이상한 점이 Process Run 중일 때는 Clean 에러가 뜨지만 제네레이터 초기화 후 메뉴얼로 RF Clean하면 잘 되는데 아킹 발생 이유를 알 수 있을까요?
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76739 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20207 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68703 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92294 |
| 109 | 핵융합 질문 [1] | 567 |
| 108 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 564 |
| 107 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 558 |
| 106 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 555 |
| » | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 552 |
| 104 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 550 |
| 103 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 548 |
| 102 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1]  | 547 |
| 101 | Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] | 546 |
| 100 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 543 |
| 99 | self bias [1] | 529 |
| 98 | Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] | 521 |
| 97 |
해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안
[1] | 516 |
| 96 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 514 |
| 95 | PECVD Uniformity [1] | 509 |
| 94 |
안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다.
[1] | 507 |
| 93 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 503 |
| 92 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 501 |
| 91 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 487 |
| 90 | (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] | 484 |