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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
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35 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 203
34 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 198
33 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 196
32 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 189
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30 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 177
29 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 174
28 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 172
27 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 171
26 corona model에 대한 질문입니다. [1] 169
25 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 162
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23 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 151
22 ICP에서 전자의 가속 [1] 149
21 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 139
20 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 138
19 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 132
18 Microwave & RF Plasma [1] 129
17 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 128
16 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 110
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