Others AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]

2023.12.21 09:20

황보람 조회 수:232

안녕하세요 플라즈마 업체 쪽에서 근무하고 있는 황보람입니다.

당사 내에서 전극에 N2+Air를 사용중이며, 샘플을 평가할 때 성능이 좋은 편인데

현장에 납품하면 갑자기 성능이 당사에서 봤던 성능이 안 나옵니다..

Gas  순도나 공정환경의 온도 및 습도까지 동일하게 해봤는데도 동일 시 안 나오는데 원인에 대한 부분이 뭐가 있을까요..?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20848
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93632
59 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 279
58 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 277
57 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 276
56 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 270
55 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 269
54 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 268
53 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 246
52 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 245
» AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 232
50 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 231
49 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 226
48 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 218
47 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 215
46 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 213
45 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 211
44 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 197
43 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 192
42 corona model에 대한 질문입니다. [1] 187
41 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 186
40 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 185
쓰기
태그

Boards

XE Login