번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103309
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24714
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61523
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73517
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105946
773 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias] [3] 24933
772 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도] [1] 24881
771 플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절] 24665
770 Arcing [아크의 종류와 발생 원인] 24527
769 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24434
768 self Bias voltage [Self bias와 mobility] 24408
767 플라즈마 쉬스 [Sheath와 self bias] 24255
766 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24206
765 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 24206
764 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24191
763 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23629
762 CCP/ICP , E/H mode 23604
761 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23475
760 DC glow discharge 23423
759 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23411
758 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical] [1] 23396
757 고온플라즈마와 저온플라즈마 23380
756 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating] 23341
755 No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율] 23338

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