| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48709 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 50779 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 57199 |
| 510 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3]  | 22120 |
| 509 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22120 |
| 508 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1]  | 22117 |
| 507 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22101 |
| 506 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22091 |
| 505 |
플라즈마 쉬스
| 22086 |
| 504 |
self Bias voltage
| 21969 |
| 503 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 21957 |
| 502 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 21863 |
| 501 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 21693 |
| 500 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21661 |
| 499 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21567 |
| 498 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21549 |
| 497 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21501 |
| 496 |
manetically enhanced plasmas
| 21429 |
| 495 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21394 |
| 494 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 21327 |
| 493 |
플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21309 |
| 492 |
Peak RF Voltage의 의미
| 21284 |
| 491 |
47th American Vacuum Society International Symposium 2000
 | 21272 |