번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73076
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17641
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65730
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86104
647 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 23443
646 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23393
645 self Bias voltage 23311
644 plasma와 arc의 차이는? 23307
643 Arcing 23248
642 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23145
641 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23137
640 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23081
639 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23076
638 DC glow discharge 22950
637 No. of antenna coil turns for ICP 22848
636 고온플라즈마와 저온플라즈마 22812
635 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22794
634 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22773
633 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22695
632 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22491
631 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22482
630 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22449
629 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22409
628 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22380

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