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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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475 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22007 |
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474 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
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473 |
self Bias voltage
| 21806 |
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472 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 21771 |
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471 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 21677 |
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470 |
플라즈마 쉬스
| 21648 |
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469 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21521 |
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468 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21517 |
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467 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21503 |
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466 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 21458 |
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465 |
manetically enhanced plasmas
| 21410 |
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464 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21324 |
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463 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21283 |
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462 |
47th American Vacuum Society International Symposium 2000
 | 21257 |
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461 |
플라즈마내의 전자 속도
[1] | 21250 |
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460 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
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459 |
Peak RF Voltage의 의미
| 21190 |
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458 |
대기압플라즈마를 이용한 세정장치
| 21114 |
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457 |
상압 플라즈마 관련 문의입니다.
[1] | 21090 |
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456 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 21026 |
