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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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No. of antenna coil turns for ICP
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566 |
DC glow discharge
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565 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 22314 |
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564 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
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563 |
self Bias voltage
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562 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
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561 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22235 |
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560 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22222 |
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559 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[1] | 22199 |
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558 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22197 |
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557 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22062 |
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556 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 22060 |
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555 |
plasma와 arc의 차이는?
| 21843 |
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554 |
플라즈마 코팅에 관하여
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553 |
Peak RF Voltage의 의미
| 21782 |
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552 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 21753 |
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551 |
플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적
| 21656 |
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550 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21607 |
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549 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 21587 |
