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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
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455 |
플라즈마의 발생과 ICP
| 21004 |
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454 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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453 |
Silent Discharge
| 20944 |
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452 |
저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서...
[1] | 20942 |
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451 |
플라즈마 측정기
[1] | 20901 |
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450 |
플라즈마 실험
| 20896 |
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449 |
플라즈마란?
| 20753 |
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448 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 20707 |
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447 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1]  | 20691 |
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446 |
plasma와 arc의 차이는?
| 20675 |
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445 |
대기압플라즈마 진단
| 20616 |
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444 |
IEDF EQP에 대한 답변
| 20520 |
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443 |
UBM 스퍼터링 장비로...
[1] | 20472 |
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442 |
plasma cleanning에 관하여....
| 20452 |
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441 |
교재구입
| 20385 |
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440 |
wafer 전하 소거: 경험 있습니다.
| 20220 |
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439 |
F/S (Faraday Shield)
| 20181 |
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438 |
Lissajous figure에 대하여..
| 20178 |
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437 |
CCP 에서 Area effect(면적) ?
| 20174 |
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436 |
Breakdown에 대해
| 20132 |
