교수님 안녕하세요. 디스플레이 장비사에서 근무중인 회사원입니다.

 

좋은 내용 정말 감사합니다. 많이 배우고 있습니다.

 

PECVD의 챔버와 standing wave effect에 관한 질문입니다. 

 

챔버의 크기가 클수록 standing wave effect에 의해 챔버 내의 플라즈마가 불균일 하게 형성되어 불균일한 필름이 증착되는 것으로 알고있습니다.

 

'용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어' 논문(http://doi.org/10.5370/KIEE.2019.68.11.1465)의 2.1 전기장 불균일도 원인 내용에서 'Wave는 전도체 표면을 따라 전극 아래 중앙부로 이동한다. 이 현상은 축대칭으로 인해 전극 중앙 하부에서 축방향 전기정은 radial 방향으로 미분 값이 0이 되어야 한다. 따라서 전극 아래 중앙부에서는 시간에 따른 전기장이 가장 크거나 가장 작다.'
라고 설명이 나와있습니다. 

 

제가 드리고 싶은 질문은 wave가 중앙부에서 가장 강한지 궁금합니다. 또한 중심부에서 가장 큰 전기장이 형성 되더라도 전기장 에너지가 플라즈마 내부에서 확산되기 때문에 챔버 전체적으로 동일한 플라즈마 밀도를 가져야 하는것 아닌지가 궁금합니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92698
117 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1774
116 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1708
115 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1702
114 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1693
» standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1644
112 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
111 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1536
110 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1523
109 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
108 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1453
107 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
106 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1436
105 플라즈마 관련 교육 [1] 1416
104 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1393
103 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1366
102 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1364
101 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1346
100 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1305
99 플라즈마 기초입니다 [1] 1290
98 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1259

Boards


XE Login