안녕하세요. 반도체 산업현장에서 Dry Etch 업무를 하고 있는 Engineer 입니다. 

CCP 방식의 Plasma Etch 과정 중 Arcing 다발하는 문제에 대해 개선을 하려고 하고 있습니다. 

 

해당 현상에 대해 설명드리면, Plasma 형성이 정상적으로 되어 Etch Process가 진행되는 도중에 순간적(Soft Arcing 추정, ms 단위 추정) Bias Reflected Power가 발생하게 됩니다. 원래 잘 형성 되어있던 Self DCBias Voltage가 이때 절반 혹은 그 이상으로 Drop이 되며 Drop된 Level을 유지하며 Process가 진행 됩니다. 그러고 몇십초 후 Bias Reflected Power가 크게 발생하여 Error 가 발생하는 경우 입니다.  

 

해당 Chamber를 열어보면 Wall Liner류 혹은 고정 Screw 등 Random 한 Point로 Arcing이 발생하는데요. 추정은 노화, 열화되어 변형된 부품들에 전하 축적으로 인한 Soft Arcing 발생 이후 Hard Arcing 유발됨으로 보고 있습니다. 이때 DCBias Voltage Drop 되는 것과 Drop 된 Level 을 유지하면서 몇십초간 유지하는것을 어떻게 해석해야 할지 알고 싶습니다. 

 

답변에 미리 감사드립니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77299
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20496
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57412
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68942
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
59 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 715
58 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 705
57 plasma 공정 중 색변화 [1] 698
56 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 694
55 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 648
» Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 643
53 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 608
52 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 606
51 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 604
50 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 600
49 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 585
48 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 557
47 self bias [1] 552
46 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 551
45 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 542
44 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 510
43 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 504
42 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 504
41 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 503
40 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 491

Boards


XE Login