안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.

플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.

질문

1.VPP가 어떤건지?

2.VDC가 어떤건지?

3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?

위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.

참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.

정말 감사합니다.

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24 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 389
23 plasma modeling 관련 질문 [1] 383
22 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 373
21 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 369
20 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 356
19 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 340
18 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 333
17 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 313
16 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 304
15 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 302
14 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 299
13 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 297

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