저희는 PT 처리를 위해 CCP 플라즈마를 사용하고 있습니다.

약 -7승 정도의 진공도의 챔버에서 ITO세정용으로 플라즈마 처리를 하고 있습니다.

제가 궁금한 것은 먼저


1. 표시되는 압력의 의미가 궁금합니다. mTorr이 플라즈마 내부로 유입된 기체(질소)가 나타내는 압력을 의미하는 것 맞나요?

그렇다면 챔버 내 압력 = 플라즈마의 압력 이라고 봐도 무방할까요


2. self bias값이 파워(W)가 증가할수록, 압력(mTorr)이 낮아질수록 증가하는데 그 이유를 알고 싶습니다.


3. 나타나는 값중 position이라는 값이 있습니다. 평소에는 position 값이 100을 유지하다가 플라즈마 처리를 위해

기체를 유입하면 그 값이 떨어지고 일정한 값을 유지를 하는데 이 position이 무엇을 뜻하는지 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20462
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57359
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68898
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
138 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2744
137 질문있습니다. [1] 2593
136 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2497
135 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2442
134 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2347
133 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2321
132 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2294
131 플라즈마볼 제작시 [1] file 2268
130 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2257
129 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2187
» 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2169
127 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2166
126 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2140
125 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2039
124 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 2025
123 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 2014
122 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1983
121 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1957
120 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1922
119 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1875

Boards


XE Login