안녕하세요.

늘 이곳에 와서 질문-응답의 열띤 글들과 학회 방문기를 잘 읽었는데 모두 없어졌다니 너무 가슴이 아프네요.
예전에 있었던 내용인 것 같은데 최근 실험을 하다가 부딪히게 되어 질문을 드립니다. 그때 미리 보았으면 좋았을 텐데.

ICP 플라즈마를 발생시킴에 있어서 CCP mode 와 ICP mode 의 차이가 어떻게 다른 것인지요? CCP mode를 마치 흔히 사용하듯이 기판(평판 기판)에 바이어스를 걸어줄때 발생하는 플라즈마처럼 생각하면 되는지요?
그리고 또하나 Matching box 에서 capacitance 를 접지시킬때와 그렇지 않은 경우 어떻게 차이가 나는지요?