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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 114376
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174 RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종] 99047
173 Plasma source type [CCP, ICP, TCP] 81546
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171 대기압 플라즈마 41900
170 ICP 플라즈마에 관해서 [2] 34999
169 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 [Ozone과 Plasma] 30218
168 CCP/ICP , E/H mode 29651
167 DBD란 28945
166 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도] [1] 27843
165 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건] [2] 27690
164 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias] [3] 26959
163 플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절] 25500
162 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 24409
161 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 24270
160 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating] 24211
159 No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율] 24191
158 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [열용량과 방전 전력에 따른 냉각 장치] [1] 24101
157 플라즈마의 발생과 ICP 23217
156 ccp-icp 22903
155 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 22790

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