안녕하세요.

s전자에 근무하는 송용재라고 합니다.

Film depo공정을 담당하고 있습니다.

한가지 의문의 들고 여기저기 찾아봐도 속시원한부분이 해결되지 않아 글을 남깁니다..

RF chamber (ICP type) Belljar에서의 arcing은 왜 발생하는것일까요?

arcing과 RF2 Reflect power(plasma power)와의 연관성은 어떻게 되나요?

발생 메커니즘과 RF2 Reflect power 상관관계에 대해 궁금합니다.

답변 기다리겠습니다.

감사합니다. 수고하세요.~

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [262] 76503
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20046
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57103
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68585
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91564
74 가입인사드립니다. [1] 1879
73 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1877
72 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1784
71 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1704
70 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1658
69 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1653
68 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1588
67 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1567
66 plasma 형성 관계 [1] 1450
65 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1434
64 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1420
63 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1393
62 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1393
61 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1389
60 ICP lower power 와 RF bias [1] 1375
59 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1322
58 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1320
57 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1274
» ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1265
55 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1199

Boards


XE Login