안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103429
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24731
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61553
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73532
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105984
93 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 2229
92 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 2145
91 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2136
90 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 2077
89 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2074
88 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2064
87 가입인사드립니다. [1] 2059
86 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2042
85 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 2035
84 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1989
83 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1979
82 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1977
81 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1942
80 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1922
79 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1919
78 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1913
77 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1883
76 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1879
75 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1814
74 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1768

Boards


XE Login