안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.

 

언제나 친절한 답변 감사 드립니다.

 

다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.

 

Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면

 

파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데

 

왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.

 

저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데, 

 

플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102860
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24688
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105832
93 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 2226
92 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 2141
91 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2132
90 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2069
89 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 2069
88 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2059
87 가입인사드립니다. [1] 2054
86 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 2030
85 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 2024
84 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1984
83 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1974
82 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1956
81 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1933
80 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1918
79 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1900
78 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1899
77 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1874
76 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1867
75 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1797
74 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1750

Boards


XE Login