Remote Plasma PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
2023.03.02 15:45
기초적인 질문인데요
PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요
Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.
Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76734 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
39 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 812 |
38 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 806 |
37 | DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] | 800 |
36 | Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] | 800 |
35 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 791 |
34 | 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] | 784 |
33 | 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] | 760 |
32 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 757 |
31 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 715 |
30 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 685 |
29 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 683 |
28 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 618 |
27 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 609 |
26 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 603 |
25 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 594 |
24 | 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] | 576 |
23 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 576 |
22 | 핵융합 질문 [1] | 567 |
21 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 554 |
20 | 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] | 516 |
Ar 플라즈마를 공부해 보시면 좋을 것 같습니다. sputter 용으로 쓰이기도 하는데, 이는 mass 관점입니다. 다른 하나는 불활성 특성이고, 이는 표면 화학 반응에 자유롭다는 특징입니다. 다만 Ar* 의 에너지 전달은 고려해야 할 사항입니다. 마지막으로 플라즈마 관점에서는 Ar*+e (낮은 에너지 전자) --> Ar+ = 2e 로 metastable Ar 이 Ar+ 보다 많이 생성되고 이들은 낮은 에너지에서 이온화가 된어서, 플라즈마 생성과 유지를 수월하게 해 준다는 특성을 가지고 있습니다. 따라서 Ar은 플라즈마 생성, 유지 및 관리 차원에서 많이 사용하게 됩니다. 미세한 표면 화학 반응을 고려할 떄는 여기서 생성되는 metastable Ar*의 거동도 중요한 인자로 관리되고 있음도 참고하시기 바랍니다.
관련해서 메타 스테이블 (준안정상턔) 및 Ar 플라즈마의 광신호 발생 등에 대해 같이 공부해 보시기를 추천합니다.