kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수

2009.11.17 16:06

김곤호 조회 수:73437 추천:217



안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102623
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24655
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61356
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73437
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105742
35 Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자] 36737
34 sheath와 debye sheilding에 관하여 [전자와 이온의 흐름] 28409
33 self bias (rf 전압 강하) 27096
32 self Bias voltage [Self bias와 mobility] 24400
31 플라즈마 쉬스 [Sheath와 self bias] 24244
30 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24185
29 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 23100
28 CCP에서 Area effect(면적)? [Self bias와 sheath capacitance] 21662
27 RF plasma에 대해서 질문드립니다. [Sheath model, Ion current density] [2] 21364
26 이온주입량에 대한 문의 20903
25 self bias [Capacitor와 mobility] [1] 19802
24 ICP에 대하여 [DC glow 방전과 ICP 플라즈마 발생] 18324
23 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc)+Vp(plasma potential)관련 질문입니다. [플라즈마 전위와 쉬스] [1] 13157
22 DC bias (Self bias) ["Glow discharge processes"] [3] 11953
21 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [Self bias와 matcher] [1] 9795
20 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [RF& DC bias와 matcher의 접지] [1] 9466
19 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [쉬스와 Bulk Plasma 영역] [1] 9201
18 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5456
17 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model] [2] 4420
16 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 3936
쓰기
태그

Boards

XE Login