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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[88]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
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CCP/ICP , E/H mode
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RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18727 |
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capacitively/inductively coupled plasma
| 17431 |
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CCP 의 electrode 재질 혼동
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좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[2] | 15313 |
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13 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 14737 |
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CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
[1] | 7178 |
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CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?
[3] | 2156 |
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10 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 1143 |
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9 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 879 |
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8 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해
[1] | 680 |
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7 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 648 |
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6 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 546 |
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5 |
RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때
[1] | 364 |
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4 |
anode sheath 질문드립니다.
[1] | 363 |
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3 |
CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응
[1] | 356 |
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2 |
라디컬의 재결합 방지
[1] | 314 |
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1 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준
[1]  | 156 |
