| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48404 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 48435 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 53873 |
| 9 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 22584 |
| 8 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 21855 |
| 7 | CCP/ICP , E/H mode | 19298 |
| 6 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18605 |
| 5 | capacitively/inductively coupled plasma | 16817 |
| 4 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 15816 |
| 3 | CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] | 1234 |
| 2 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 649 |
| 1 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 413 |