| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48454 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 48806 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 53935 |
| 10 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 22623 |
| 9 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 21872 |
| 8 | CCP/ICP , E/H mode | 19422 |
| 7 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18612 |
| 6 | capacitively/inductively coupled plasma | 16865 |
| 5 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 15841 |
| 4 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 1698 |
| 3 | CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] | 1375 |
| 2 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 704 |
| 1 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 172 |