| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48709 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 50778 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 57199 |
| 12 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
 | 22733 |
| 11 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
 | 22120 |
| 10 |
CCP/ICP , E/H mode
| 19947 |
| 9 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18640 |
| 8 |
capacitively/inductively coupled plasma
| 17106 |
| 7 |
CCP 의 electrode 재질 혼동
| 15931 |
| 6 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[2] | 3244 |
| 5 |
CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
[1] | 1694 |
| 4 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 822 |
| 3 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 361 |
| 2 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 274 |
| 1 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[2] | 202 |