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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48587 |
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 49804 |
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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11 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 22702 |
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10 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22032 |
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9 |
CCP/ICP , E/H mode
| 19747 |
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8 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18626 |
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7 |
capacitively/inductively coupled plasma
| 16947 |
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6 |
CCP 의 electrode 재질 혼동
| 15900 |
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5 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[2] | 2434 |
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4 |
CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
[1] | 1582 |
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3 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 774 |
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2 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 307 |
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1 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 210 |
