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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76908
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20296
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57215
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68765
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92729
28 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23273
27 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23101
26 CCP/ICP , E/H mode 23058
25 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19789
24 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18880
23 capacitively/inductively coupled plasma 17816
22 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16670
21 CCP 의 electrode 재질 혼동 16508
20 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7662
19 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5130
18 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3569
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2304
16 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1628
15 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1480
14 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1331
13 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1078
12 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1023
11 anode sheath 질문드립니다. [1] 1008
10 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 997
9 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 878

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