|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48775 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 52795 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 60674 |
|
12 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 22751 |
|
11 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 22135 |
|
10 |
CCP/ICP , E/H mode
| 20018 |
|
9 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18648 |
|
8 |
capacitively/inductively coupled plasma
| 17138 |
|
7 |
CCP 의 electrode 재질 혼동
| 15949 |
|
6 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 3423 |
|
5 |
CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
[1] | 1724 |
|
4 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 850 |
|
3 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 386 |
|
2 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
[1] | 297 |
|
1 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[2] | 247 |
