CCP anode sheath 질문드립니다.

2021.07.15 08:42

해운대온천 조회 수:458

안녕하십니까. 플라즈마 관련 회사를 다니는 사람입니다.

 

쉬스에 관해서 조금 공부를 하고 있습니다..

 

1. ccp방식에서 전극을 캐소드, 애노드 라고 표현하는 이유를 알고 싶습니다. 배터리와 같은 관점으로 전류가 나오는 곳을 캐소드라고 하는건가요?

 

2. 캐소드 쉬스가 애노드 쉬스 보다 두꺼운 이유는 무엇인가요?(단순히 A/C ratio때문인지...?), 두 전극의 면적차이가 같을 경우에도... 쉬스의 두께 차이가 존재하나요?

 

인터넷으로 블로그에 나와있는 글을 봤는데 거기서는, "양이온은 애노드로 접근하기 힘들겠지만, 전자들은 이보다 훨씬 빠르게 애노드로 들어갈수 있기 때문에, 그만큼 애노드에서는 중화되버리고, 전위의 차이가 매꿔지게 된다. 즉 , 쉬스 포텐셜의 차이가 줄어들게 되고, 얇은 쉬스가 될수 밖에 없다" 라고 되어있더라구요... 오히려 더 헷갈리는거 같습니다..

 

(쉬스라는것은 전자와 이온의 속도차이에 의해서, 전극 표면에 쌓인 음전하들로 대전되어, 전위가 플라즈마 보다 낮고, 전자는 들어가기 힘들고, 양이온은 많이 들어가는... 그러한 공간을 말하는것 아닌가요?)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [111] 4883
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16221
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51248
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63743
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83505
22 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23006
21 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22551
20 CCP/ICP , E/H mode 21429
19 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18765
18 capacitively/inductively coupled plasma 17495
17 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 16577
16 CCP 의 electrode 재질 혼동 16191
15 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 15999
14 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7265
13 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2409
12 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1215
11 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1026
10 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 798
9 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 723
8 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 636
7 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 494
6 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 466
» anode sheath 질문드립니다. [1] 458
4 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 448
3 라디컬의 재결합 방지 [1] 409

Boards


XE Login