Remote Plasma Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
2023.12.18 02:36
안녕하세요.
Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!
Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는
전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?
400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?
감사합니다!
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76827 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20250 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68740 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92580 |
| 19 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95716 |
| 18 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24987 |
| 17 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24350 |
| 16 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18547 |
| 15 | In-flight plasma process | 15505 |
| 14 | remote plasma 데미지 질문 [1] | 14474 |
| 13 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10366 |
| 12 | RPSC 관련 질문입니다. [2] | 4034 |
| 11 | RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] | 2393 |
| 10 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2020 |
| 9 | Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] | 1953 |
| 8 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1200 |
| 7 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1190 |
| 6 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1]  | 1179 |
| 5 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1049 |
| 4 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 761 |
| » | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 587 |
| 2 | 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] | 445 |
| 1 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 | 10 |